ウェハ加熱用
ヒータ面の均一化
ヒータ面全体を温度で捉えることで、
異常箇所の改良と不良コスト削減に役立ちます。
＜半導体・パワーデバイス研究開発の課題＞
- ウェハ加熱用ヒータ面内のムラをなくし均一にしたい。
- 前工程の早い段階で不良状態を見つけ最小限のロスで抑えたい。
ヒータ温度ムラを数値化することで
歩留まり改善に役立つ
半導体ウェハの酸化膜形成による ヒータの温度ムラは、半導体性能に影響を与えてしまうため、
ヒータの温度分布を観測、数値化し分布が 均一となるよう調整することで、歩留まり改善に役立ちます。
推奨機種
高精細、ハイスピードの
超高性能ハイエンドモデル
ヒータ面の測定に適している特長
- ハイコントラスト且つ高精細な熱画像にて撮影
- オプションの2倍視野拡大レンズで、近距離で広くデータ取得
- サファイアガラス、石英ガラス越しで、ヒータ面の温度計測が可能
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