はんだ付けの品質を向上したい

• 変位制御パルスヒートユニット

温度と変位を制御することで最低限の加熱ではんだ付けできます。

• 応答速度が速い温度制御・・・オーバーシュートを抑制して熱影響を低減
• 精度の高い変位制御・・・溶け出しを検知し加熱を終了
• ワークのバラつき（はんだ量、治具の当たり方による熱引きの差など）に影響されることなく、必要最低限の熱量で均一な仕上りのはんだ付けを実現します。
  ※従来の温度・時間制御だとワークのバラつきを考慮して長めの加熱時間設定となりはんだの溶け出し後、余剰熱が加わる。

• 温度制御半導体レーザユニット

温度フィードバックによりレーザ出力を制御することで熱影響を抑制したはんだ付けを実現します。

• 放射温度計による同軸モニタリングを実施
• 出力切替への応答が速く、安定した熱量を与え、高品質はんだ付けと歩留り向上に貢献

＜温度制御あり＞

＜温度制御なし＞